Как стало известно, исследователи института Samsung открыли новый материал для создания новейшей памяти, который назвали аморфным нитридом бора (a-BN). Стоит отметить, что данное открытие стало возможным благодаря содействию специалистов Ульсанского национального института науки и технологии (UNIST) и Кембриджского университета - именно они помогали ученым из Samsung в поисках необходимого материала. По данным самих авторов открытия, аморфный нитрид бора в конечном итоге способен заметно приблизить появление полупроводниковых материалов следующего поколения, которые и будут использоваться в новейших DRAM (оперативная память) и NAND (флеш-память).В качестве необычных плюсов нового материала можно отметить возможность его использования в качестве изолирующего материала, сводящего к минимуму электрические помехи, а также возможность его “выращивания” на пластинах при сравнительно низкой температуре 400°C.ИСТОЧНИК: https://www.ferra.ru/news/techlife/samsung-otkryla-novyi-material-dlya-sozdaniya-noveishei-pamyati-06-07-2020.htm